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镀银简介

2020-08-06 06:45:51    1264次浏览

镀银早始于1800年,个镀银的专利是1838年由英国伯明翰的Elkington兄弟提出的,所用的镀液为碱性镀液,与他们发明的碱性镀黄金体系很类似。一个多世纪以来,镀银液的基本配方和当年的配方差别不大,仅仅是提高了银配位离子浓度以达到快速镀银的目的而已。氰系镀液过去的主要缺点是使用的电流密度小,现在这个问题也解决了,镀银使电流密度可高达10A/dm,光亮镀银可达1.5~3A/dm,其镀面光滑而无需再打光,也可镀厚。近年来快速发展起来的电子元器件的高速选择性镀银,如引线框架的选择性镀银,采用喷射镀的方法。所用的电流密度高达300~3000A/dm,镀液中[KAg(CN)2]的浓度 也高达40~75g/L,阳极采用白金或镀铂的钛阳极,这样在1s内即可镀上约4~5μm的银层,它已能满足硅芯片和银焊垫之间用铝线来键合(Bonding)。

被浏览过 3264158 次    版权所有:甘肃锦鑫贵金属回收有限公司(ID:35148073) 颜艳珍

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